用于半導體器件，分立器件，光電子器件，電力電子器件及大規模集成電路制造等領域對晶片進行擴散，氧化，退火，合金及燒結等工藝，可用于 8-12 英寸工藝尺寸。

控溫精度高，溫度穩定; 高速搬送系統； 精密熱磁場控制，氣體高精度控制系統； 工藝周期短，生產效率高。

主要技術指標：

• ● 工作溫度范圍：400-1286℃

• ● 恒溫區長度：300-1100mm

• ● 控溫精度 800-1286℃±0.5℃

• ● 單點溫度穩定性：800-1286℃±0.5℃/24h
• ● 最大可控升溫速度：15℃/min
• ● 最大降溫速度：5℃/min

   ※ 賽瑞達可為用戶量身定制產品和解決方案

控制系統特點：

• ● 可保存多條工藝曲線，每條曲線可設置多步
• ● 自動運行中可暫停/繼續運行功能
• ● PID參數自整定功能
• ● 系統故障自動診斷功能
• ● 停電后斷點繼續功能等
• ● 多點溫度補償